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장비기본정보

기관명
(재)철원플라즈마산업기술원
장비명
회전식 코터기 & 평판 가열기 시스템 (Spin Coater & Hot Plate)
모델명
MS-103-G200
제작사(국가)
대한민국
제작년도
2012
용도
분석
분류
기계가공
취득일
2012.06.15
장비설명
Spin Coater는 Photolithography 공정 중 감광액(Photoresist), 또는 기타 용액을 기판에 도포한 후 회전력을 이용하여 고르게 박막을 형성시키기 위한 장비로서 패턴형성 공정에 사용될 수 있으며 디스플레이 연구 개발내의 실험설비 및 시제품 생산에 활용가능하며, HotPlate의 경우 평판 가열시스템으로 감광막, 또는 기타 박막이 형성된 기판의 열처리 설비이다.
장비구성

성능
1.Spin Coater 1)Equipment Dimension : 1150(W) * 900(D) * 1650(H) 2)Substrate 크기 : 200 mm X 200 mm 기판 전용 3)Three Photoresist nozzle pump installed 4)Max Spin RPM : 3000RPM 5)Spin speed Control accuracy : < 1,000 rpm ± 1rpm > 1,000 rpm ± 0.1% 6)RPM Acceleration (Max) : ≥10,000 rpm/s 2.Hot Plate 1)Equipment Size : 450(W) * 350(D) * 133(H) 2)내하중 : 약 15kg 3)연속 사용 가능 시간 : 48시간 (250 ℃ 기준) 4)Ceramic ball 150um spacer Installed 5)Temperature control range : 50 ℃~300 ℃, 0.1 ℃ programmable 6)Heater Type : Mica heater 7)Power : 220 V, 30 A, 1Φ, 60 Hz
NTIS NO
E-Tube NO

장비이용안내

사용방법
기관의뢰
사용료유형
시간당
이용료
설치형태
고정
설치장소
(재)철원플라즈마기업지원연구동
장비상태
정상
담당자
신정철
연락처
0334529881
팩스
0334529883
사용방법
전화

주소: (24047) 강원도 춘천시 신북읍 신북로 61-10 강원테크노파크 기술혁신지원센터 TEL/033-248-5611
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